近日，ASML新任CEO透露，兩臺(tái)售價(jià)約3.5億美元的High NA EUV光刻機(jī)已在英特爾完成安裝。作為全球最尖端且價(jià)格最高的光刻機(jī)，High NA EUV被視為EUV光刻機(jī)的升級(jí)版，而非全新產(chǎn)品，預(yù)計(jì)其推出和采用將相對(duì)迅速。
然而，臺(tái)積電因成本考慮，至今尚未接納High NA EUV。此舉被外界視為與ASML進(jìn)行條件談判的策略。
去年年底，EUV光刻機(jī)已運(yùn)抵英特爾位于俄勒岡州的D1X工廠，計(jì)劃于2025年年底投入生產(chǎn)。
ASML此前展示的EUV光刻機(jī)內(nèi)部畫面引起了廣泛關(guān)注，甚至有網(wǎng)友擔(dān)憂國(guó)產(chǎn)廠商可能進(jìn)行逆向復(fù)刻。
