近期，AMD的RDNA 4架構(gòu)RX 9070系列顯卡憑借其卓越的性能與性價比，在市場中贏得了廣泛好評。然而，業(yè)界普遍認(rèn)為，AMD在光線追蹤技術(shù)上的表現(xiàn)仍有待提升。
據(jù)知名硬件分析人士@MrMPFR的最新總結(jié)，AMD下一代GPU架構(gòu)——UDNA 5，將重點強(qiáng)化光線追蹤性能，力求達(dá)到甚至超越NVIDIA Blackwell系列GPU的水平。這一消息無疑為AMD的粉絲們帶來了期待。
光線追蹤技術(shù)對于提升游戲畫面的真實感和性能至關(guān)重要。AMD顯然意識到了這一點，因此UDNA 5架構(gòu)在設(shè)計上特別注重光線追蹤性能的優(yōu)化。據(jù)悉，AMD在BVH（邊界體積層次結(jié)構(gòu)）管理方面進(jìn)行了創(chuàng)新，通過檢測并壓縮場景中圖形對象的BVH相似性，有效減少了CPU的開銷和資源占用。
AMD還計劃引入更先進(jìn)的光線遍歷和交點檢測技術(shù)，旨在進(jìn)一步提升光線追蹤的效率。這些技術(shù)上的改進(jìn)，無疑將為玩家?guī)砀恿鲿澈捅普娴挠螒蝮w驗。
為了加速光線追蹤技術(shù)的研發(fā)，AMD不僅在技術(shù)上不斷創(chuàng)新，還在積極招募相關(guān)領(lǐng)域的頂尖人才。這一舉措不僅針對PC市場，還將惠及索尼PlayStation游戲機(jī)的下一代產(chǎn)品，顯示出AMD在游戲領(lǐng)域的全面布局。
值得注意的是，UDNA架構(gòu)的新顯卡預(yù)計將采用臺積電的第二代3nm（N3E）工藝制造，與下一代銳龍?zhí)幚砥鞅３忠恢隆＿@一先進(jìn)的制造工藝將為顯卡帶來更高的性能和能效比。
更令人振奮的是，AMD下一代顯卡還將重新推出旗艦級產(chǎn)品，有望與NVIDIA的RTX 60系列一較高下。這無疑將為顯卡市場帶來新的競爭格局和更多選擇。
