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    鎧俠加速AI時(shí)代布局,XL-FLASH SSD預(yù)計(jì)明年出樣,性能飆升至10M IOPS

       發(fā)布時(shí)間:2025-06-06 10:28 作者:楊凌霄

    NAND閃存領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)鎧俠KIOXIA,在近期舉行的公司戰(zhàn)略會(huì)議上,公布了其面向人工智能(AI)時(shí)代的長期發(fā)展藍(lán)圖。該戰(zhàn)略聚焦于滿足AI應(yīng)用對(duì)存儲(chǔ)速度及性能的極致需求,其中一項(xiàng)關(guān)鍵舉措是開發(fā)一款專為AI設(shè)計(jì)的固態(tài)硬盤(SSD)。

    這款創(chuàng)新的SSD將融合XL-FLASH高性能SLC NAND閃存與全新設(shè)計(jì)的SSD控制器,旨在提供前所未有的隨機(jī)讀取性能,達(dá)到驚人的10M IOPS,這一數(shù)字是當(dāng)前市場(chǎng)上企業(yè)級(jí)TLC PCIe 5.0 SSD(約3000+K IOPS)的三倍之多。鎧俠預(yù)計(jì),該產(chǎn)品的樣品將在2024年下半年面世。

    在存儲(chǔ)技術(shù)層級(jí)中,位于DRAM與普通NAND閃存之間的SCM(存儲(chǔ)級(jí)內(nèi)存)領(lǐng)域,鎧俠亦有所布局。公司計(jì)劃在2026年下半年推出支持CXL協(xié)議的XL-FLASH存儲(chǔ)產(chǎn)品,進(jìn)一步拓展其在高端存儲(chǔ)市場(chǎng)的版圖。同時(shí),鎧俠正與南亞科技合作,共同研發(fā)基于4F2架構(gòu)的氧化物半導(dǎo)體(IGZO)通道晶體管DRAM內(nèi)存,即OCTRAM,該技術(shù)有望大幅降低漏電流并提升能效。

    在NAND閃存技術(shù)方面,鎧俠同樣展示了其未來的發(fā)展路線圖。下一代BiCS 10技術(shù)將實(shí)現(xiàn)332層堆疊,最大容量可達(dá)2Tb,接口速率將飆升至4800MT/s。不僅如此,該技術(shù)還將帶來讀取延遲的減少、寫入功耗的降低以及比特密度的提升,為數(shù)據(jù)存儲(chǔ)領(lǐng)域帶來革命性的變化。

    通過這些前瞻性的技術(shù)研發(fā)與市場(chǎng)布局,鎧俠正穩(wěn)步邁向AI時(shí)代的存儲(chǔ)前沿,致力于為用戶提供更高效、更可靠的存儲(chǔ)解決方案。

     
     
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