近期，國際半導體制造設備巨頭ASML公司宣布了一項重要進展，其最新款的EUV光刻機EXE:5200即將面世。這款光刻機作為EXE:5000的升級版，性能表現更為卓越，然而卻明確表示不會向中國廠商出售。
據悉，EXE:5200在晶圓吞吐量上實現了顯著提升，相較于前代EXE:5000的每小時185片以上，新機型將能夠更高效地支持2nm工藝的量產。這一改進對于滿足未來半導體行業對高精度、高效率制造設備的需求具有重要意義。
早在之前，ASML就已宣布英特爾訂購了業界首臺TWINSCAN EXE:5200光刻機。這款光刻機不僅具備高數值孔徑，還擁有每小時超過200片的晶圓處理能力，是極紫外（EUV）大批量生產系統中的佼佼者。英特爾的此次訂購標志著ASML在引入0.55 NA EUV技術的道路上取得了重要突破。
值得注意的是，無論是TWINSCAN EXE:5000還是EXE:5200，都采用了0.55的數值孔徑，相較于前代EUV光刻機的0.33數值孔徑透鏡，這一改進大大提高了精度，使得新機型能夠為更小的晶體管功能提供更高分辨率的模式。這對于推動半導體工藝技術的進一步發展具有關鍵作用。
ASML表示，EUV 0.55 NA的設計旨在從2025年開始實現多個未來節點，這是業內的首次部署。隨著這一技術的逐步推廣，預計將會有更多采用類似密度的內存技術涌現，進一步推動半導體行業的創新發展。然而，對于中國廠商而言，由于ASML的限制性政策，他們可能無法及時獲得這款先進的EUV光刻機，這無疑將對其在半導體領域的競爭力產生一定影響。
