近期，碳化硅（SiC）材料領(lǐng)域迎來了一項(xiàng)重要技術(shù)突破。西湖儀器（杭州）技術(shù)有限公司宣布，其已成功研發(fā)出針對(duì)12英寸碳化硅襯底的激光剝離自動(dòng)化解決方案，這一創(chuàng)新成果為碳化硅行業(yè)的成本控制與效率提升開辟了新路徑。
回顧去年11月，天岳先進(jìn)公司曾率先推出了業(yè)界首款300毫米的N型碳化硅襯底。這一大尺寸襯底的推出，不僅顯著擴(kuò)大了單個(gè)晶圓上可用于芯片制造的有效面積，還有效降低了邊緣損失的比例。然而，隨著襯底尺寸的增大，對(duì)12英寸及以上超大尺寸碳化硅襯底切片技術(shù)的需求也愈發(fā)迫切。
針對(duì)這一挑戰(zhàn)，西湖儀器憑借其在納米光子學(xué)與儀器技術(shù)領(lǐng)域的深厚積累，成功開發(fā)出了全新的自動(dòng)化解決方案。該方案覆蓋了晶錠減薄、激光加工以及襯底剝離等多個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)，實(shí)現(xiàn)了全程自動(dòng)化操作。
尤為在激光剝離過程中，西湖儀器的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了零材料損耗。僅在后續(xù)的減薄工序中，才需要對(duì)襯底的上下表面進(jìn)行微量去除，去除厚度僅為80-100微米。這一技術(shù)不僅大幅降低了原料損耗率，還有效縮短了襯底的出片時(shí)間。
西湖儀器（杭州）技術(shù)有限公司成立于2021年底，是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售于一體的專業(yè)化儀器設(shè)備公司。其創(chuàng)始團(tuán)隊(duì)源自西湖大學(xué)納米光子學(xué)與儀器技術(shù)實(shí)驗(yàn)室，擁有豐富的科研背景和行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。
此次西湖儀器的技術(shù)突破，不僅展現(xiàn)了其在碳化硅材料加工領(lǐng)域的深厚實(shí)力，更為整個(gè)碳化硅行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力。隨著這一技術(shù)的逐步推廣和應(yīng)用，碳化硅材料的生產(chǎn)效率將進(jìn)一步提升，成本也將得到有效控制。
西湖儀器的這一創(chuàng)新成果，也為國內(nèi)碳化硅產(chǎn)業(yè)的發(fā)展樹立了新的標(biāo)桿。隨著更多企業(yè)的加入和技術(shù)的不斷突破，中國碳化硅產(chǎn)業(yè)將迎來更加廣闊的發(fā)展前景。
