近期，有關(guān)英特爾在2025年Intel Foundry Direct Connect大會(huì)上對(duì)Intel 14A節(jié)點(diǎn)的技術(shù)路徑保持沉默的消息引起了業(yè)界關(guān)注。盡管大會(huì)未明確透露是否會(huì)在該節(jié)點(diǎn)引入High NA EUV光刻技術(shù)，但代工業(yè)務(wù)負(fù)責(zé)人納加·錢德拉塞卡蘭對(duì)此話題給出了見(jiàn)解。
據(jù)錢德拉塞卡蘭透露，英特爾在14A制程的EUV光刻步驟中擁有靈活的選擇：可以繼續(xù)采用傳統(tǒng)的Low NA技術(shù)，或是部分引入High NA技術(shù)。值得注意的是，這兩種方案在設(shè)計(jì)規(guī)則層面保持兼容，這意味著無(wú)論英特爾最終選擇哪條技術(shù)路線，都不會(huì)對(duì)客戶產(chǎn)生任何不利影響。
英特爾在俄勒岡州的研發(fā)晶圓廠已經(jīng)成功安裝了第二套由ASML提供的High NA EUV光刻系統(tǒng)，并且該系統(tǒng)的表現(xiàn)達(dá)到了預(yù)期。這一進(jìn)展標(biāo)志著英特爾在High NA EUV圖案化技術(shù)開發(fā)方面正穩(wěn)步邁向量產(chǎn)階段。同時(shí)，英特爾已經(jīng)掌握了High NA EUV在18A和14A節(jié)點(diǎn)上的相關(guān)數(shù)據(jù)，為未來(lái)的生產(chǎn)奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。
