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    20周年iPhone或采用HBM技術,端側AI性能能否一飛沖天?

       發布時間:2025-05-15 20:35 作者:蘇婉清

    近期,有關蘋果即將在2027年推出的20周年版iPhone的技術創新細節逐漸浮出水面。據悉,蘋果正致力于開發多項前沿技術,其中,HBM(高帶寬內存)技術尤為引人注目,有望成為提升iPhone性能的關鍵所在,特別是在設備端的人工智能(AI)應用方面。

    HBM,即High Bandwidth Memory,是一種采用3D堆疊技術的新型高性能DRAM。它通過TSV(硅通孔)技術,將多個內存芯片垂直堆疊在一起,不僅顯著提高了數據吞吐量,還降低了功耗,同時減小了內存芯片的體積。與傳統的2D內存相比,HBM憑借其立體互聯結構,實現了更高的集成度和更快的讀寫速度。

    蘋果計劃將HBM技術應用于iPhone的GPU單元,以大幅增強設備端的AI計算能力。這一舉措對于運行復雜的端側AI大模型至關重要,它不僅能夠有效延長電池續航,還能大幅度減少計算延遲。HBM與處理器通過共享的Interposer中間介質層實現緊密連接,這種設計不僅優化了芯片面積的使用,還縮短了數據傳輸時間。

    據了解,蘋果已與三星電子和SK海力士等內存供應商就HBM內存的供應計劃展開了深入討論。三星正在開發VCS封裝方案,而SK海力士則采用了VFO技術。兩家公司均計劃在2026年之后實現HBM內存的量產,以滿足未來市場需求。

    然而,盡管HBM內存技術在性能上具備顯著優勢,但在移動設備中的應用仍面臨不少挑戰。HBM的制造成本遠高于當前的LPDDR內存,這對于追求性價比的智能手機市場來說,無疑是一個不小的考驗。作為一款輕薄設備,iPhone的散熱能力將是HBM技術應用的重要限制因素。再者,3D堆疊和TSV工藝涉及高度復雜的封裝技術,良率的提升也是一個亟待解決的問題。

     
     
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